深圳乐邻科技发展有限公司/电镜专用基底/电镜专用镊子/电镜专用导电胶带/电镜专业样品台/高精度掩膜版/photo mask/聚酯光绘掩膜/ 聚四氟乙烯硅片清洗花篮/PTFE清洗清洗架/PFA清洗花篮/石英清洗架/清洗容器/导电玻璃/ 氧化硅片/单抛硅片/双抛硅片/硅片单片盒/硅片卡塞盒/不锈钢镊子/防强酸强碱灼伤药品/

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1至12英寸单面抛光硅片/氧化硅片/SIO2片衬底硅片

氧化硅片

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 指定衬底的氧化硅片，价格见表格：（批量采购价格可优惠）单面抛光+双面氧化：100nm，200nm，500nm，145元/片                              1000nm，2000nm，180元/片单面抛光+单面氧化，双面抛光+单双面氧化，本征氧化硅片、超薄、超厚氧化硅片，均有现货，请跟客服说明或备注好规格及参数以免发错货；各种特殊厚度/各种电阻率、晶向均可定制加工；单双面氧化，衬底、氧化层厚度不同，价格有所不同；定制价格需要跟客服联系确认，同时提供氧化硅片各种尺寸切割服务。 <img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_060.png" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_059.jpg" width="750" height="750" style=""/>
高精纯度单晶SEM光学生物载体方片可按尺寸定制

本征区熔高阻硅片

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高纯单晶抛光硅片，已激光划片，方便大小使用，小硅片尺寸是3、5、10、15、20、25、30、40、50mm的方片，硅片厚度550um-725um，有少量库存，其他尺寸的需要定制，请联系店家。可用于同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM等领域。生长方法     直拉单晶                抛光           单抛（抛光面有蓝膜保护） 晶体取向    <100> 电阻率        1~30工艺参数     平整度TIR<3μm、挠曲度ttv<10μm、弯曲度bow<10μm、粗糙度<0.5nm、颗粒度<10（for size="">0.3μm） 加工定制    客户如果需要不同参数的硅片，请联系客服  支付方式    公对公转账、院校合作、支付宝、货到付款、银行汇款到目前为止，我们有多家公司，多所高校、科研所的长期客户。包括：TCL集团股份有限公司，京东方科技集团股份有限公司，深圳市华星光电技术有限公司，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，应用材料（中国）有限公司，鹏翔飞控作动系统（西安）有限责任公司，广东美的制冷设备有限公司，马鞍山太时芯科技有限公司，山东科芯电子有限公司，湖南湘标新材料科技有限公司，北京嘉仕涛科技有限公司，苏州甫一电子科技有限公司，营口尚能光电材料有限公司，上海东贝真空设备有限公司，北京世纪金光半导体有限公司，杭州纤纳光电科技有限公司，苏州爱彼光电材料有限公司，江西冠能光电材料有限公司，福建中科芯光电科技有限公司，苏州原位芯片科技有限公司，洛阳市鼎晶电子材料有限公司，深圳市化试科技有限公司，清华大学，上海交通大学，哈尔滨工业大学，西安交通大学，中山大学，华中科技大学，厦门大学，北京航空航天大学，吉林大学，北京工业大学，苏州大学，上海科技大学，黑龙江大学，中北大学等众多的公司、高校和科研所。<img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_162052_062.png" width="750" height="750"/>
实验室PI膜科研聚酰亚胺膜实验室镀膜专用耐高温膜

PI柔性衬底

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聚酰亚胺薄膜(Polyimide Film)是世界上性能的薄膜类绝缘材料，由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(DDE)在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。聚酰亚胺薄膜具有优良的耐高低温性、电气绝缘性、粘结性、耐辐射性、耐介质性，能在－269℃～280℃的温度范围内长期使用，短时可达到400℃的高温。被称为"黄金薄膜"的聚酰亚胺薄膜具有卓越的性能，它广泛的应用于空间技术、F、H级电机、电器的绝缘、FPC（柔性印刷线路板）、TAB（压敏胶带基材）、航天、航空、计算机、电磁线、变压器、音响、手机、电脑、冶炼、采矿电子元器件工业、汽车、交通运输、原子能工业等电子电器行业。公司生产的聚酰亚胺膜规格(厚度)主要有：0.05mm、0.075mm、0.125mm，宽度是300mm，长度100mm或者200mm 产品名称：PI薄膜（聚酰亚胺）颜色：琥珀色（金黄色，茶色）  规格：300*100MM   宽幅：300MM，长度可以任意        透过率：70%基材：聚酰亚胺（PI）厚度：0.125 张力强度：14（kg/25mm）伸长率：65%耐温性：280℃ （30分钟无残胶）耐电压：4,000 (Volts) <img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/O1CN0127EsJ9Kw9l3KE6i_!!3380187766.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/O1CN0127EsJ7gDPfRrfub_!!3380187766.jpg" width="750" height="750" style=""/>
XRD测试衬底，SEM衬底高品质专业手工石英片

石英片

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（加工流程为下料-退火-抛开-摊平-切割-研磨-整理尺寸-二次研磨-粗抛光-细抛光）。10片起订，耐高温，耐腐蚀，热稳定性好，透光性好，电绝缘性好。<img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_162936_067.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_162936_066.jpg" width="750" height="750" style=""/>
15*15*1.1mmITO导电玻璃钙钛矿太阳能电池专用

导电玻璃

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本公司专业销售ITO导电玻璃，FTO导电玻璃，AZO导电玻璃，低阻6欧10欧15欧均有现货，实验室科研专用，物美价廉，欢迎大家购买，如有疑问，请直接联系卖家，谢谢！常见的ITO玻璃厚度是1.1mm；FTO玻璃厚度是1.1，2.2mm；AZO玻璃厚度是1.8mm；ITO导电膜厚度是0.175mm；电子玻璃基片/白玻璃厚度是0.3，0.4，0.55，0.7，1.1mm厚度。FTO 1.1  15欧   膜层厚  350nm  透光率78% （国产）FTO 2.2   10欧  膜层厚  450nm  透光率85% （进口料） ITO导电玻璃规格如下：                              10*10mm                                 300片起！ 15*15mm，10*20mm               200片起！  10*30mm                                150片起！20*20mm，10*40mm              100片起！30*30mm                                140片起！40*40mm                                80片起!50*50mm                                50片起!100*100mm                             12片起！355.6*406.4mm                        5片起！ FTO导电玻璃规格如下：15*15mm ，10*20mm  200片起！10*30mm                   150片起！20*20mm                   200片起！10*40mm               100片起！30*30mm                  140片起！40*40mm                  80片起！50*50mm                  50片起！100*100mm              12片起！355.6*406.4mm          5片起！<img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_162823_065.png" width="640" height="424"/>
1/2/3/4/6/8/12英寸双面抛光硅片红外镀膜 prime级

双抛硅片

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生长方法:直拉单晶               抛光:双抛 晶体取向:<100>、<111>、<110> 电阻率:0.001-20000(Ω·cm) 工艺参数:平整度TIR<3μm、挠曲度TTV<10μm、弯曲度BOW<10μm、粗糙度<0.5nm、颗粒度<10（for size>0.3μm） 加工定制:客户如果需要不同参数的硅片，请联系客服 支付方式:大学、科研所可公对公转账、淘宝直接拍，微信转账、支付宝转账、货到付款、银行汇款等多种付款方式。 到目前为止，我们有多家公司，多所高校、科研所的长期客户。包括：TCL集团股份有限公司，京东方科技集团股份有限公司，深圳市华星光电技术有限公司，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，应用材料（中国）有限公司，鹏翔飞控作动系统（西安）有限责任公司，广东美的制冷设备有限公司，马鞍山太时芯科技有限公司，山东科芯电子有限公司，湖南湘标新材料科技有限公司，北京嘉仕涛科技有限公司，苏州甫一电子科技有限公司，营口尚能光电材料有限公司，上海东贝真空设备有限公司，北京世纪金光半导体有限公司，杭州纤纳光电科技有限公司，苏州爱彼光电材料有限公司，江西冠能光电材料有限公司，福建中科芯光电科技有限公司，苏州原位芯片科技有限公司，洛阳市鼎晶电子材料有限公司，深圳市化试科技有限公司，清华大学，上海交通大学，哈尔滨工业大学，西安交通大学，中山大学，华中科技大学，厦门大学，北京航空航天大学，吉林大学，北京工业大学，苏州大学，上海科技大学，黑龙江大学，中北大学等众多的公司、高校和科研所。<img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_058.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_060.png" width="750" height="750" style=""/>
1英寸25.4mm单面抛光硅片高纯度单晶硅

研磨片

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生长方式：直拉单晶（CZ）热氧化工艺直径与工差：25.4±0.4mm掺杂类型：N型（掺磷，砷， 锑） P型（掺硼）晶向：<111><100>电阻率： 0.001-50(Ω•cm) 可按客户要求定制工艺数据：平整度TIR:<3μm 、翘曲度TTV: <10μm 、                弯曲度BOW< 10μm 、粗糙度<0.5nm、颗                     粒度< 10 (for size >0.3μm)用途介绍：用于工艺等同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜                做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、                            SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测                试基底、分子束外延生长的基底、X射线分                     析晶体半导体到目前为止，我们有多家公司，多所高校、科研所的长期客户。包括：TCL集团股份有限公司，京东方科技集团股份有限公司，深圳市华星光电技术有限公司，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，应用材料（中国）有限公司，鹏翔飞控作动系统（西安）有限责任公司，广东美的制冷设备有限公司，马鞍山太时芯科技有限公司，山东科芯电子有限公司，湖南湘标新材料科技有限公司，北京嘉仕涛科技有限公司，苏州甫一电子科技有限公司，营口尚能光电材料有限公司，上海东贝真空设备有限公司，北京世纪金光半导体有限公司，杭州纤纳光电科技有限公司，苏州爱彼光电材料有限公司，江西冠能光电材料有限公司，福建中科芯光电科技有限公司，苏州原位芯片科技有限公司，洛阳市鼎晶电子材料有限公司，深圳市化试科技有限公司，清华大学，上海交通大学，哈尔滨工业大学，西安交通大学，中山大学，华中科技大学，厦门大学，北京航空航天大学，吉林大学，北京工业大学，苏州大学，上海科技大学，黑龙江大学，中北大学等众多的公司、高校和科研所。<img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_059.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_061.jpg" width="750" height="750" style=""/>
6英寸单面抛光硅片高纯度单晶硅镀膜电镜科研衬底

单抛硅片

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产品名称：6英寸单抛硅片生长方式：直拉单晶直径与工差：±0.4mm掺杂类型：N型（掺磷，砷，锑） P型（掺硼）晶向：<111>/<100>电阻率： 0.001-50(Ω•cm) 可按客户要求定制工艺数据：平整度TIR:<3μm 、翘曲度TTV: <10μm 、弯曲度BOW< 10μm 、粗糙度<0.5nm、颗粒度< 10 (for size > 0.3μm)用途介绍：用于工艺等同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体半导体。 <img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_162205_063.jpg" width="750" height="750"/>
实验科研专用高纯度单晶SEM光学生物载体方片

单抛硅片

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高纯单晶抛光硅片，已激光划片，方便大小使用，小硅片尺寸是3、5、10、15、20、25、30、40、50mm的方片，硅片厚度550um-725um，有少量库存，其他尺寸的需要定制，请联系店家。可用于同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM等领域。生长方法     直拉单晶                抛光           单抛（抛光面有蓝膜保护） 晶体取向     <100> 电阻率        1~30工艺参数     平整度TIR<3μm、挠曲度TTV<10μm、弯曲度BOW<10μm、粗糙度<0.5nm、颗粒度<10（for size>0.3μm） 加工定制    客户如果需要不同参数的硅片，请联系客服  支付方式    公对公转账、院校合作、支付宝、货到付款、银行汇款 <img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_162052_062.png" width="750" height="750"/>
3/5/10mm单抛硅片/单晶硅片/氧化硅片

氧化硅片

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高纯单晶抛光硅片，单抛双面硅片，已激光划片，方便大小使用，小硅片尺寸是3mm、5mm、10mm、15mm、20mm、25mm、30mm、40mm、50mm的方片，硅片厚度550um-725um，一般有少量库存，其他尺寸的需要定制，请联系店家。可用于半导体光刻，纳米压印、PVD/CVD/分子束外延生长镀膜、MEMS、半导体器件等领域。为了降低成本，集中精力提供优质实惠的产品，我们没有PS漂亮的产品图片，但我们提供高质量的产品，不便之处，还请广大客户见谅！切割好的硅片，都用蓝膜保护，使用时撕下蓝膜即可，既能保护硅片不被摩擦损坏，又能保证硅片洁净度。生长方法     直拉单晶              抛光         单抛（抛光面有蓝膜保护）晶体取向    <100>工艺参数     平整度TIR<3μm、挠曲度ttv<10μm、弯曲度bow<10μm、粗糙度<0.5nm、颗粒度<10（for size="">0.3μm）加工定制     客户如果需要不同参数的硅片，请联系客服支付方式    公对公转账、院校合作、支付宝、货到付款、银行汇款以上硅片尺寸均有配套定制的聚四氟乙烯清洗架可以用选。<img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_058.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro1b369f.pic48.websiteonline.cn/upload/20200218_161641_061.jpg" width="750" height="750" style=""/>

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