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实验科研专用高纯度单晶SEM光学生物载体方片

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高纯单晶抛光硅片,已激光划片,方便大小使用,小硅片尺寸是3、5、10、15、20、25、30、40、50mm的方片,硅片厚度550um-725um,有少量库存,其他尺寸的需要定制,请联系店家。可用于同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM等领域。

生长方法     直拉单晶              

  抛光           单抛(抛光面有蓝膜保护)

 晶体取向     <100>

 电阻率        1~30

工艺参数     平整度TIR<3μm、挠曲度TTV<10μm、弯曲度BOW<10μm、粗糙度<0.5nm、颗粒度<10(for size>0.3μm)

 加工定制    客户如果需要不同参数的硅片,请联系客服

 

 支付方式    公对公转账、院校合作、支付宝、货到付款、银行汇款


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高纯单晶抛光硅片,已激光划片,方便大小使用,小硅片尺寸是3、5、10、15、20、25、30、40、50mm的方片,硅片厚度550um-725um,有少量库存,其他尺寸的需要定制,请联系店家。可用于同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM等领域。

生长方法     直拉单晶              

  抛光           单抛(抛光面有蓝膜保护)

 晶体取向     <100>

 电阻率        1~30

工艺参数     平整度TIR<3μm、挠曲度TTV<10μm、弯曲度BOW<10μm、粗糙度<0.5nm、颗粒度<10(for size>0.3μm)

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